К содержанию

Модель

SiC Laser-Annealing Equipment

Производитель: Han's Laser

4
характеристик: 1
источников

О модели

SiC Laser-Annealing Equipment - модель производителя Han's Laser.

4 характеристики приведены словами производителя, без пересчёта.

Сведения на странице взяты из 1 источника, у каждого значения указан свой.

Характеристики

Грузоподъёмность: нет данных
Вылет: нет данных
Повторяемость позиционирования: нет данных
Масса: нет данных
Степень защиты: нет данных

Характеристики из источника

Строки приведены так, как их печатает производитель: без перевода, пересчёта и сравнения.

Supported Wafer Sizes: 4inch、6inch、8inch
источник 1
Energy Stability: ≤1%
источник 1
Beam Uniformity: >95%
источник 1
Surface Temperature: Annealed‑side >1500℃
источник 1

Источники

Cookies Consent
страница товара; от производителя; издатель: Han's Laser; редакция: 2026-10-02

Где в источнике: Supported Wafer Sizes; Energy Stability; Beam Uniformity; Surface Temperature

Производитель и семейство

Производитель: Han's Laser

Нашли ошибку в данных? Сообщите нам, и мы проверим источник.