К содержанию

Модель

Photoresist Stripping Machine LF12-XS3MRS1A

Производитель: Han's Laser

5
характеристик: 1
источников

О модели

Photoresist Stripping Machine LF12-XS3MRS1A - модель производителя Han's Laser.

5 характеристик приведены словами производителя, без пересчёта.

Сведения на странице взяты из 1 источника, у каждого значения указан свой.

Характеристики

Грузоподъёмность: нет данных
Вылет: нет данных
Повторяемость позиционирования: нет данных
Масса: нет данных
Степень защиты: нет данных

Характеристики из источника

Строки приведены так, как их печатает производитель: без перевода, пересчёта и сравнения.

Wafer Size (mm): 50-300
источник 1
Substrate Material: Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
источник 1
Throughput（WPH）: 40
источник 1
Cassette Quantity: 2CS&2LP
источник 1
Configuration: 1Soak+1Stripper+1Cleaning
источник 1

Источники

Photoresist Stripping Machine LF12-XS3MRS1A
страница товара; от производителя; издатель: Han's Laser; редакция: 2026-10-02

Где в источнике: Wafer Size (mm); Substrate Material; Throughput（WPH）; Cassette Quantity; Configuration

Производитель и семейство

Производитель: Han's Laser

Нашли ошибку в данных? Сообщите нам, и мы проверим источник.