К содержанию

Модель

Etching Machine ET12-XS2E2S1A

Производитель: Han's Laser

5
характеристик: 1
источников

О модели

Etching Machine ET12-XS2E2S1A - модель производителя Han's Laser.

5 характеристик приведены словами производителя, без пересчёта.

Сведения на странице взяты из 1 источника, у каждого значения указан свой.

Характеристики

Грузоподъёмность: нет данных
Вылет: нет данных
Повторяемость позиционирования: нет данных
Масса: нет данных
Степень защиты: нет данных

Характеристики из источника

Строки приведены так, как их печатает производитель: без перевода, пересчёта и сравнения.

Throughput（WPH）: 90
источник 1
Configuration: 4 Etch Units
источник 1
Wafer Cassette Quantity: 2cs&2lp
источник 1
Substrate Material: Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
источник 1
Wafer Size（mm）: 50-300
источник 1

Источники

Etching Machine ET12-XS2E2S1A
страница товара; от производителя; издатель: Han's Laser; редакция: 2026-10-02

Где в источнике: Throughput（WPH）; Configuration; Wafer Cassette Quantity; Substrate Material; Wafer Size（mm）

Производитель и семейство

Производитель: Han's Laser

Нашли ошибку в данных? Сообщите нам, и мы проверим источник.